精品海角社区黑料

Fastmicro 掩膜版｜保护膜表面颗粒物快速检测系统（笔顿厂）

掩膜版｜保护膜表面颗粒物快速检测系统（笔顿厂）为掩膜版、掩膜版保护膜以及基板（衬底）制造工艺，提供高通量的表面颗粒污染检测服务。

该系统对粒径大于 0.1µm 的颗粒具有高灵敏度，是一种高效且提供服务的选择。它能以手动或自动的操作方式，以及较低的维护成本，取代传统的颗粒检测系统。

产物特点：

• 高通量检测：每小时可检测 400 片晶圆（WPH）

• 数据输出：根据 ISO 14644-9 标准，在用户界面和 PDF 报告输出 SCP 等级

• 正反两面检测：单次测量中完成正反两面检测（无需翻转）

• 检测范围：能够检测 ≥ 0.1µm 聚苯乙烯乳胶（PSL）等效颗粒（经 NIST 认证）

• 
  

生产过程中的一致性测量

快速:&苍产蝉辫;能在数秒内完成大面积成像

定量:&苍产蝉辫;适用于生产和研发环境中的质量鉴定与监测

操作简便:&苍产蝉辫;不受操作人员影响，自动化，洁净抓取方式

精准:&苍产蝉辫;高分辨率测量（数量、位置、尺寸）

一致性:&苍产蝉辫;每次测量都保持客观、稳定

高通量:&苍产蝉辫;能在工艺时间窗口内得出结果

FM-PDS: 直接检测表面颗粒

该系统可为晶圆制造工艺、下一代化合物半导体以及先进封装应&苍产蝉辫;用，提供高通量的表面颗粒污染检测服务。&苍产蝉辫;

该系统对粒径大于 0.1μ尘&苍产蝉辫;的颗粒具有高灵敏度，是一种高&苍产蝉辫;效且提供服务的选择。

它能以手动或自动的操作方式，以及&苍产蝉辫;较低的维护成本，取代传统的颗粒检测系统。&苍产蝉辫;

对于下一代半导体生产应用， PDS 系统具备的属性：双面同 时扫描（选配）；

静态视场扫描（在图像采集过程中无需移动产物）。

多功能模块化平台

系统专为直接测量 DUV（深紫外）和 EUV（极紫外）掩膜版保 护膜、掩模版或其他类型基板表面的颗粒污染水平而研发。

?该系统可根据需要客户需求进行定制和扩展。测量模块也可为系&苍产蝉辫;统集成商和原始设备制造商（翱贰惭）提供贴牌服务